電子電鍍行業超純水
   半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
   電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗，電鍍行業水處理系統包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。通常系統由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。
制備電子工業用超純水的工藝流程
電子電鍍行業制備超水的工藝大致分成以下幾種：
　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
　　2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
　　3、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點